ได้นำเสนอกันไปแล้ว ว่า Intel มองอนาคตไปถึงการผลิตชิปในระดับเทคโนโลยี 7 นาโนเมตร เอาไว้แล้ว ซึ่งล่าสุดก็มีข้อมูลเพิ่มเติม ว่า Intel มีการมองหาวัสดุในการนำเอามาผลิตชิปแบบใหม่ๆด้วย
สำหรับเทคโนโลยีการผลิตชิปที่ระดับ 10 นาโนเมตรนั้น Intel ก็ตั้งเป้าที่จะใช้ Silicon ในการผลิต และน่าจะสามารถผลิตออกมาจริงได้ในช่วงปลายปี 2016 หรือช่วงต้น 2017 แต่กับเทคโนโลยี 7 นาโนเมตร Intel กำลังมองหาวัสดุแบบอื่นในการนำเอามาผลิต ซึ่งคาดกันว่าจะเป็น III-V semiconductor จากแร่ Indium, Gallium และ Arsenide (InGaAs) นอกจากนั้น ยังความเป็นไปได้ที่จะเป็นแร่ Indium Phosphide (InP) ที่มีการใช้ผลิตทรานซิสเตอร์ FinFET จาก Imec อยู่แล้วในปัจจุบัน
แต่ไม่ว่ามันจะเป็นแร่ InGaAs หรือ InP ก็ยังถือว่าเป็นเรื่องที่ไกลตัวอีกพอสมควร กว่าที่จะถึงช่วงเวลาที่จะผลิตออกมาให้ได้ใช้กันจริงๆ
ที่มา: VR-Zone
